[新品] 氧化亚硅气相沉积碳包覆CVD炉(KY-R-L(Q))

氧化亚硅---气相沉积碳包覆CVD炉

“咸阳陶瓷研究院---科源窑炉”一直专注于研发、设计、生产、销售、服务、售后为一体化服务，公司致力于锂电池正负极材料磷酸铁锂、硅碳负极（氧化亚硅（一氧化硅）纳米硅，硅氧、多孔硅）石墨、分子筛、活性炭、碳纳米管等粉体材料的高温烧结、化学气相沉积、CVD碳包覆、CVD碳调孔等工艺所需烧结设备、CVD设备系统的研发和销售。
且在同行业***，公司研发设计的实验室以及工业化生产硅负极CVD炉系统已在国内外院所高校喝负极材料生产企业应用。有需要欢迎您来电咨询或来厂实地考察洽谈。 

氧化亚硅负极材料CVD气相沉积碳包覆

设备进料量：10Kg/h    50Kg/h

       设备进料方式：螺杆进料

       设备炉胆材质：310S

       设备炉胆总长：4.5m

       设备加热有效区长度：3m

       设备测试温度：950°

       设备倾斜角：0.38

       设备炉胆转速：12min/转

       高温有效停留时间：120min。

       物料在炉胆装填量占炉管总体积：15%

       物料堆积高度：6.3cm

       实验设备炉内氧含量：0.1ppm

       氮气流量：0.4m3/小时

      设备用氮气：99.999%高纯氮

      氮气流量计：玻璃转子流量计。

      乙炔流量计：玻璃转子流量计。