技术优势：
1.可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.2%-0.3%。
2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。
3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环保、更低的化学品耗用成本。
4.实现硅片浸入溶液传输并抛光（专利技术），无需“水上漂”或“滚轮带液”，无刻蚀线，工艺稳定，容易控制。
5.解决了反应气泡不易散发的难题，抛光效果更好，碎片率更低。
6.专用抛光液，背面抛光效果更好，容易控制，产量大，成本低，废水低污染，易处理，节约废水处理成本。
7.背抛光技术与SE，背面钝化（AL2O3），背接触技术，两次印刷，MWT等主流技术可叠加，兼容性好，提升背面技术革新空间。
8.技术便于实现系统集成或模块化，方便客户选择整机或改造。
9.国内***个完全拥有自主知识产权、新型提效解决方案。
项目 数据
功能 去PSG+背抛光+刻蚀
适用对象 多晶/单晶硅片 156mm*156mm±0.5mm(thickness0.2mm)
125mm*125mm±0.5mm(thickness0.2mm)
产能 传输轨道 5
125mm*125mm ***大产能 3600cells/h
156mm*156mm ***大产能 3000cells/h
碎片率 ≦0.05%
传输速度 速度范围 1.0~2.5m/min
操作速度 1.8m/min
传动高度 960±30mm
主要材质 PVDF, NaturePP, PEEK, PVC
滚轮间距 50mm
滚轮材质 PP
工程条件 电力供应 65KW,3相交流电380V,50Hz
纯水 2.5±0.5kgf/cm2
压缩空气/氮气 5±0.5kgf/cm2
制程控制 PLC控制
操作界面 全图形化中文彩色人机界面
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