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德国新格拉斯科技集团为标准及高效电池生产线上硅晶片的化学处理提供完整的干进/干出解决方案。
间歇式工作的湿台架(SILEX)提供了各种各样的加工选项,成为硅电池技术专门蚀刻加工及复杂清洁操作的首选。为了实现设计构型的***高灵活性,新一代的SILEX设备采用了透明模块化设计,占地空间紧凑。SILEX设备与新型智能软件方案相结合,满足了目前和未来大规模生产对于产能、灵活性和稳定性的需求。
SILEX系统实现了高达3,000wph的产量,低于0.05%废品率以及较高的工艺出品率。德国新格拉斯科技集团的工厂能处理薄至120μm的硅晶片,在硅太阳能科技领域为前端电池工艺抢先推出***新的SEMI路线图指南。
主要特点
成熟而高度集成的设计
***高达3,000wph的高产量
高可靠性(工作时间>95%)
低破损率(<0.05%)
工序、硅晶片类型、硅晶片尺寸的高度灵活性→硅晶片厚度薄至120μm(后期加工)
内部自动化化学水浴管理
通过复杂的加工参数控制实现可重复加工结果→网络通信支持
载流子跟踪和数据记录
与国际安全规定的符合性
