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理想能源设备(上海)有限公司

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低压化学气相沉积设备
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最后更新: 2022-11-28 14:07
 
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  凭借来自世界各地技术专家的努力,理想能源在短短一年的时 间内就研发出在玻璃基板上沉积透明导电氧化物膜(Transparent Conductive Oxide, TCO)的低压化学气相沉积设备(LPCVD)。该设备已有八台用在硅基薄膜太阳电池生产线 上沉积电池的前后导电层。实际的生产数据表明:该设备开机率达90%以上,产品良率达 98%。该设备代表了此类技术的世界先进水平,在2011年获上海浦东科技进步奖,2012年 获上海科学技术奖。

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