北京科华微电子材料有限公司

紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的环化橡胶—重氮萘醌类阴图型抗蚀剂，包括BN-301、BN-303、BN-308、BN-310等系列产品。这类产品具有粘附性和抗湿法腐蚀性好及易于去胶等优点，主要用于分立器件、集成电路及其它微型零件等微电子技术的制作。