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有机去胶清洗台
一、 设备概况：A. 设备名称：有机去胶清洗台B. 设备型号：KZIC-T-OGSW-05BC. 整机尺寸：约1700mm（L）1300mm(W)1850mm(H)；D. 操作台面高度：90020mmE. 被清洗工件规格：8 英寸圆片,25片/篮（233mm*215mm*220mm）；
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2022-12-09 |
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石墨舟清洗机
设备名称：石墨舟清洗机产品规格：控制模式：半自动控制（工件搬运为手动操作，工艺参数控制过程为自动）设备尺寸：3500mm（L）*1100mm（W）*2000mm（H）台面高度：1000mm25mm工件规格：156舟（1196mm*275mm*212mm）
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2022-11-28 |
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石英管清洗机
设备名称：石英管清洗机产品规格：控制模式：半自动控制（工件搬运为手动操作，工艺参数控制过程为自动）设备尺寸：3200mm（L）*580mm（W）*600mm（H）台面高度：1000mm25mm工件规格：320*L2550mm工作能力：1管/批，
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2022-11-28 |
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多晶制绒清洗设备
设备简述设备名称：多晶制绒清洗设备适用于：用于多晶硅电池生产线中的酸腐蚀制绒和扩散前清洗工序产品特点：骨架由优质碳素结构钢Q235A，外包3mm的PP板防腐焊接而成；外壳是德国进口10mm瓷白耐酸PP板热熔焊接而成；
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2022-11-28 |
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单晶制绒清洗机
设备名称：单晶制绒清洗机适用于：单晶硅电池生产线的切片后去损伤层、清洗、和制绒控制模式：全自动控制＞技术参数：项目 数据工件规格 单晶硅电池片 156*156*0.2 mm125*125*0.2 mm产能 单篮节拍 450秒（可依客户要
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2022-11-28 |
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背抛光刻蚀清洗设备
技术优势：1.可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.2%-0.3%。2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环保、更低的化学品耗用成
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2022-11-28 |
产品分类